Bâtiment 10S : Institut FOTON (équipe OHM - CNRS), Départements EII & GPM
Sortir de la salle blanche
Dépôt par pulvérisation cathodique Leybold SiNx/Si/Métaux
Dépôt par pulvérisation cathodique Alcatel SCM450 ZnS/Ge/Si
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Evaporation par canon à électron Alliance Concept EVA 451 Métaux
Gravure ionique réactive GIR300 Alcatel Filière III/V
Gravure ionique réactive MG100 Plassys Filière Si
PECVD Corial D250 pour SiOx, SiNx
Evaporation par canon à électron Temescal Métaux
Scribeur
Profilomètre Bruker DektakXT
Four RTA Jetfirst 1300°C
Tester I(V) Sous pointes
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Zone d’enduction
Aligneur de masque MJB3
Microscope + Interféromètre optique
[En savoir +](https://nanorennes.cnrs.fr/photolithographie-et-chimie/)
Etuve 200°C
Hotte chimique
Photolitographie « maskless » SmartPrint
Aligneur de masque MJB4
Zone d’enduction
Hotte-chimie
Microscope optique
Etuve
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