Bâtiment 10S : Institut FOTON (équipe OHM - CNRS), Départements EII & GPM

Sortir de la salle blanche

Dépôt par pulvérisation cathodique Leybold SiNx/Si/Métaux  

Dépôt par pulvérisation cathodique Alcatel SCM450 ZnS/Ge/Si  

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Evaporation par canon à électron Alliance Concept EVA 451 Métaux  

Gravure ionique réactive GIR300 Alcatel Filière III/V  

Gravure ionique réactive MG100 Plassys Filière Si  

PECVD Corial D250 pour  SiOx, SiNx  

Evaporation par canon à électron Temescal Métaux  

Scribeur  

Profilomètre Bruker DektakXT  

Four RTA Jetfirst 1300°C  

Tester I(V) Sous pointes  

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Zone d’enduction  

Aligneur de masque MJB3  

Microscope + Interféromètre optique  

[En savoir +](https://nanorennes.cnrs.fr/photolithographie-et-chimie/)  

Etuve 200°C  

Hotte chimique  

Photolitographie « maskless » SmartPrint  

Aligneur de masque MJB4  

Zone d’enduction  

Hotte-chimie  

Microscope optique  

Etuve  

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